在芯片制造過程中,臭氧主要用于清潔晶圓;消除有機物、金屬和顆粒;去除光刻膠;消毒去離子水設施。臭氧清洗總是涉及氧化,工藝差異取決于清洗步驟的...
臭氧殺滅細菌和病毒的作用通常是物理的、化學的及生物的等幾個方面的綜合作用,其作用機制可歸納為以下幾點:1、作用于細胞膜導致細胞膜的通透性增加...