在芯片制造過程中,臭氧主要用于清潔晶圓;消除有機物、金屬和顆粒;去除光刻膠;消毒去離子水設施。臭氧清洗總是涉及氧化,工藝差異取決于清洗步驟的...
臭氧發生器和臭氧機都是用來產生臭氧的機器,只是稱謂不同而已,臭氧發生器是在工業上的叫法,很多企業或工廠,需要用到臭氧凈化時,就需要購買能生成...